設(shè)備名稱

Description

型號

Model

主要技術(shù)內(nèi)容

Specification

主要用途

Usage

其它

Other

極高真空多靶磁控

濺射及電子束蒸發(fā)

復合鍍膜機

CK&ZF-500

主抽泵：單級分子泵

極限真空：6x10^-9Pa

Ultimate cacuuum:6x10^-9Pa

濺射室：φ500 x450

Sputtering chamber:φ500 x450

靶：4xφ76

Target：4xφ76

樣品：平面φ50；柱狀：φ5 x5 x9只

樣品加熱：200℃

Sample heated temperature：200℃

樣片運動方式：公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)

Sample transmission:Revolted and rotated

配氣系統(tǒng)：4路流量控制

Gas flow  system:4-MFC,

進口4坩堝電子槍，功率6KW

計算機自動控制

用于制備各種單層或多層介

質(zhì)膜、金屬、半導體薄膜及工

藝研究。

Used for the production of metal

 films,medium films,semiconduct

 or films and metal films

Suitable for scientific research.

磁控濺射同時離子束輔助