設備名稱

Description

型號

Model

主要技術(shù)內(nèi)容

Specification

主要用途

Usage

其它

Other

電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

The

electron

beam

evaporates

system

ZF-700

極限真空：2x10^-4Pa

Ultimate cacuuum:2x10^-4Pa

蒸發(fā)室：700x700x600

Evaporates chamber:700x700x600

樣品：φ450

Sample size:φ450

電子槍：8KW

Electronics:8KW

蒸發(fā)舟：2個

Boat of evaporate：2

配氣系統(tǒng)：1路流量控制

Gas flow  system:1-MFC,flow control

膜厚控制：MDC360C

Thick control of film:MDC360C

樣品轉(zhuǎn)速控制：1~5轉(zhuǎn)/分鐘

Turning rate:1~5rpm

樣片膜厚不均勻：小于±6%

The film deviation of the thick asymmetry:±6%

用于大面積平板顯示器件的研制。

Used for researching to 

manufacture

 the big area flat panel

 type display piece

可選計算機監(jiān)控。自動控制

蒸發(fā)過程蒸發(fā)速率、膜厚、

溫度、電流、電壓，并隨

時生成其變化的曲線。

Can

options:Computer

 process control system.